Творческую встречу о фотографии проведут в Школе дизайна НИУ ВШЭ

Автор: Мария Шаимкулова
Творческую встречу о фотографии проведут в Школе дизайна НИУ ВШЭ. Фото: Ксения Догонашева, «Вечерняя Москва»
Творческую встречу о фотографии проведут в Школе дизайна НИУ ВШЭ. Фото: Ксения Догонашева, «Вечерняя Москва»

Паблик-ток «Двойная экспозиция: фотография Китая на пересечении искусства и коммерции» организуют 24 февраля в Школе дизайна Национального исследовательского университета «Высшая школа экономики».

На лекции эксперты, являющиеся ведущими фотографами и художниками, познакомят зрителей с созданием фотографии в Китае, с тем, какое развитие произойдет в ближайшие десятилетия, и почему понимание своей культурной идентичности становится ключевым преимуществом в эпоху короткого контента.

Посетителям расскажут об истории китайской фотографии, методах работы с аппаратурой и сохранении культурной идентичности в картинах.

В обсуждении примут участие художник, эксперт Polaroid в Китае Чжан Сюлун и преподаватель Школы дизайна Ирина Чмырева, сообщили на официальном сайте высшего учебного заведения.

Начало запланировано на 19:00. Вход по предварительной регистрации будет бесплатным по адресу: улица Малая Пионерская, дом №12, аудитория 384.



Новости СМИ2